Copyright (©) 2019 V. G. Tsitsishvili, N. M. Dolaberidze, M. O. Nijaradze, N. A. Mirdzveli, Z. S. Amiridze
![](/public/site/images/top-bottom-1.png)
![Creative Commons License](https://i.creativecommons.org/l/by/4.0/80x15.png)
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
V. G. Tsitsishvili
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П.Г. Мелікішвілі
Тбіліського державного університету ім. І. Джавахишвілі
Грузія
N. M. Dolaberidze
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П.Г. Мелікішвілі
Тбіліського державного університету ім. І. Джавахишвілі
Грузія
M. O. Nijaradze
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П.Г. Мелікішвілі
Тбіліського державного університету ім. І. Джавахишвілі
Грузія
N. A. Mirdzveli
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П.Г. Мелікішвілі
Тбіліського державного університету ім. І. Джавахишвілі
Грузія
Z. S. Amiridze
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П.Г. Мелікішвілі
Тбіліського державного університету ім. І. Джавахишвілі
Грузія
Оголошення!
Відповідно до статті 22 Закону України «Про забезпечення функціонування української мови як державної» наукові видання України публікуються державною мовою, англійською мовою та/або іншими офіційними мовами Європейського Союзу. Згідно з цим, журнал «Хімія, фізика та технологія поверхні» приймає до розгляду лише статті, які написані українською або англійською мовою.