Chemistry, Physics and Technology of Surface, 2014, 5 (1), 89-93.

AFM and SEM study on the morphology of SiO2 nanoparticles in polishing slurries



Ya. A. Kosenok, V. E. Gaishun, O. I. Tyulenkova, V. G. Denisman, T. A. Gerasimenya, O. A. Matyushonok

Abstract


A method is described of obtaining and investigation of the morphology of nanoparticles in concentrated aqueous slurries based on pyrogenic silica and silica sol obtained by the ion exchange technology. These results are useful for development of polishing compositions and also to establish the formation regularities of structural, chemical and electrical properties of the surface as well as for the explanation of the mechanism of chemical-mechanical polishing of semiconductor materials.

Keywords


polishing slurry; silica nanoparticles; AFM study; SEM study; silica sol

Full Text:

PDF (Українська)

References


1. Юзова В.А., Шелованова Г.Н. Актуальные проблемы современной электроники и наноэлектроники: курс лекций. – Красноярск: ИПК СФУ, 2009. – 220 с.

2. Артемов А.С., Рузавин И.Г., Фарафонов С.Б. Инновационные аспекты технологии химико-механического нанополирования (ХМП) материалов полупроводниковой электроники // Нанотехнологии и наноматериалы: современное состояние и перспек-тивы развития в условиях Волгоградской области. – Волгоград: ВолГУ, 2009. – С. 27–50.

3. Гунько В.М., Туров В.В., Горбик П.П. Вода на межфазной границе. – Киев: Наукова думка, 2009. – 694 c.

4. Gwyddion – Free SPM (AFM, SNOM/NSOM, STM, MFM, …) data analysis software [Electronic resource] / David Nečas – Petr Klapetek, 2008. – http://gwyddion.net. .

5. Айлер Р. Химия кремнезёма. – В 2-х ч.– Москва: Мир, 1982.–1128 с.




Copyright (©) 2014 Ya. A. Kosenok, V. E. Gaishun, O. I. Tyulenkova, V. G. Denisman, T. A. Gerasimenya, O. A. Matyushonok

Creative Commons License
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.