Copyright (©) 2022 G. P. Tsintskaladze, T. M. Sharashenidze, L. G. Eprikashvili, M. G. Zautashvili, T. N. Kordzakhia, M. A. Dzagania
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
G. P. Tsintskaladze
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Мелікішвілі Тбіліського державного університету ім. І. Джавахішвілі
Грузія
T. M. Sharashenidze
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Мелікішвілі Тбіліського державного університету ім. І. Джавахішвілі
Грузія
L. G. Eprikashvili
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Мелікішвілі Тбіліського державного університету ім. І. Джавахішвілі
Грузія
M. G. Zautashvili
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Мелікішвілі Тбіліського державного університету ім. І. Джавахішвілі
Грузія
T. N. Kordzakhia
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Мелікішвілі Тбіліського державного університету ім. І. Джавахішвілі
Грузія
M. A. Dzagania
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Мелікішвілі Тбіліського державного університету ім. І. Джавахішвілі
Грузія
Оголошення!
Відповідно до статті 22 Закону України «Про забезпечення функціонування української мови як державної» наукові видання України публікуються державною мовою, англійською мовою та/або іншими офіційними мовами Європейського Союзу. Згідно з цим, журнал «Хімія, фізика та технологія поверхні» приймає до розгляду лише статті, які написані українською або англійською мовою.