Copyright (©) 2020 G. P. Tsintskaladze, L. G. Eprikashvili, T. N. Kordzakhia, T. V. Sharashenidze, M. G. Zautashvili, V. M. Gabunia
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
G. P. Tsintskaladze
Тбіліський державний університет ім. Ів. Джавахішвілі;
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Меликишвілі
Грузія
L. G. Eprikashvili
Тбіліський державний університет ім. Ів. Джавахішвілі;
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Меликишвілі
Грузія
T. N. Kordzakhia
Тбіліський державний університет ім. Ів. Джавахішвілі;
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Меликишвілі
Грузія
T. V. Sharashenidze
Тбіліський державний університет ім. Ів. Джавахішвілі;
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Меликишвілі
Грузія
M. G. Zautashvili
Тбіліський державний університет ім. Ів. Джавахішвілі;
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Меликишвілі
Грузія
V. M. Gabunia
Тбіліський державний університет ім. Ів. Джавахішвілі;
Інститут фізичної та органічної хімії ім. П. Меликишвілі
Грузія
Оголошення!
Відповідно до статті 22 Закону України «Про забезпечення функціонування української мови як державної» наукові видання України публікуються державною мовою, англійською мовою та/або іншими офіційними мовами Європейського Союзу. Згідно з цим, журнал «Хімія, фізика та технологія поверхні» приймає до розгляду лише статті, які написані українською або англійською мовою.