Copyright (©) 2024 L. G. Eprikashvili, T. N. Kordzakhia, M. G. Zautashvili, N. V. Pirtskhalava, M. A. Dzagania, G. P. Tsintskaladze, T. V. Sharashenidze
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
L. G. Eprikashvili
Інститут фізичної та органічної хімії Петра Мелікішвілі
Тбіліського державного університету імені Івана Джавахішвілі
Грузія
T. N. Kordzakhia
Інститут фізичної та органічної хімії Петра Мелікішвілі
Тбіліського державного університету імені Івана Джавахішвілі
Грузія
M. G. Zautashvili
Інститут фізичної та органічної хімії Петра Мелікішвілі
Тбіліського державного університету імені Івана Джавахішвілі
Грузія
N. V. Pirtskhalava
Інститут фізичної та органічної хімії Петра Мелікішвілі
Тбіліського державного університету імені Івана Джавахішвілі
Грузія
M. A. Dzagania
Інститут фізичної та органічної хімії Петра Мелікішвілі
Тбіліського державного університету імені Івана Джавахішвілі
Грузія
G. P. Tsintskaladze
Інститут фізичної та органічної хімії Петра Мелікішвілі
Тбіліського державного університету імені Івана Джавахішвілі
Грузія
T. V. Sharashenidze
Інститут фізичної та органічної хімії Петра Мелікішвілі
Тбіліського державного університету імені Івана Джавахішвілі
Грузія
Оголошення!
Відповідно до статті 22 Закону України «Про забезпечення функціонування української мови як державної» наукові видання України публікуються державною мовою, англійською мовою та/або іншими офіційними мовами Європейського Союзу. Згідно з цим, журнал «Хімія, фізика та технологія поверхні» приймає до розгляду лише статті, які написані українською або англійською мовою.