Хімія, фізика та технологія поверхні, 2017, 8 (4), 410-415.

Формування антибактеріальних покриттів на хітозанових матрицях методом магнетронного напилення



DOI: https://doi.org/10.15407/hftp08.04.410

O. V. Kalinkevich, O. Yu. Karpenko, Ya. V. Trofimenko, A. M. Sklyar, V. Yu. Illiashenko, A. N. Kalinkevich, V. A. Baturin, S. N. Danilchenko

Анотація


Методом магнетронного розпилення отримано тонкі мідні покриття на біодеградуючих хітозанових матрицях. Вивчено фізико-хімічні характеристики отриманих покриттів, а також їхні антибактеріальні властивості. Вміст міді не перевищує порогу токсичності для людини 200–250 мг/доба. Наявність ультратонкої мідної плівки не змінює морфологію і кристалічну структуру плівок хітозану, але значно підвищує їхні антибактеріальні властивості; зокрема, плівки пригнічують ріст S. aureus.


Ключові слова


хітозан; мідь; магнетронне напилення; антибактеріальний эфект

Повний текст:

PDF (English)

Посилання


1. Muzzarelli R.A.A. Chitin in Nature and Technology. (New York: Plenum Press., 1986). https://doi.org/10.1007/978-1-4613-2167-5

2. Grass G., Rensing C., Solioz M. Metallic copper as an antimicrobial surface. Appl. Environ. Microbiol. 2011. 77(5): 1541. https://doi.org/10.1128/AEM.02766-10

3. Badaraeva A.D., Nemoykina A.L., Bolbasova E.N., Tverdokhlebova S.I. PLLA scaffold modification using magnetron sputtering of the copper target to provide antibacterial properties. Resource-Efficient Technologies. 2017. 3(2): 204. https://doi.org/10.1016/j.reffit.2017.05.004

4. Ellmer K. Magnetron sputtering of transparent conductive zinc oxide: relation between the sputtering parameters and the electronic properties. J. Phys. D: Appl. Phys. 2000. 33(4): R17-R32. https://doi.org/10.1088/0022-3727/33/4/201




DOI: https://doi.org/10.15407/hftp08.04.410

Copyright (©) 2017 O. V. Kalinkevich, O. Yu. Karpenko, Ya. V. Trofimenko, A. M. Sklyar, V. Yu. Illiashenko, A. N. Kalinkevich, V. A. Baturin, S. N. Danilchenko

Creative Commons License
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.