Copyright (©) 2023 N. V. Vityuk, A. M. Eremenko, N. M. Rusinchuk, V. Z. Lozovski, M. M. Lokshyn, V. S. Lysenko, Iu. P. Mukha
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
N. V. Vityuk
Інститут хімії поверхні ім. O.O.Чуйка Національної академії наук України
Україна
A. M. Eremenko
Інститут хімії поверхні ім. O.O.Чуйка Національної академії наук України
Україна
N. M. Rusinchuk
Навчально-науковий інститут високих технологій Київського національного університету імені Тараса Шевченка
Україна
V. Z. Lozovski
Навчально-науковий інститут високих технологій Київського національного університету імені Тараса Шевченка
Україна
M. M. Lokshyn
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова Національної академії наук України
Україна
V. S. Lysenko
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова Національної академії наук України
Україна
Iu. P. Mukha
Інститут хімії поверхні ім. O.O.Чуйка Національної академії наук України
Україна
Оголошення!
Відповідно до статті 22 Закону України «Про забезпечення функціонування української мови як державної» наукові видання України публікуються державною мовою, англійською мовою та/або іншими офіційними мовами Європейського Союзу. Згідно з цим, журнал «Хімія, фізика та технологія поверхні» приймає до розгляду лише статті, які написані українською або англійською мовою.