Copyright (©) 2015 L. Karachevtseva, S. Kuchmii, O. Lytvynenko, K. Parshyn, O. Sapelnikova, O. Stroyuk, Wang Bo
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
L. Karachevtseva
Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова Національної академії наук України
Україна
S. Kuchmii
Інститут фізичної хімії ім. Л.В. Писаржевського Національної академії наук України
Україна
O. Lytvynenko
Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова Національної академії наук України
Україна
K. Parshyn
Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова Національної академії наук України
Україна
O. Sapelnikova
Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова Національної академії наук України
Україна
O. Stroyuk
Інститут фізичної хімії ім. Л.В. Писаржевського Національної академії наук України
Україна
Wang Bo
Нінгбо Технологічний Університет
КНР
Оголошення!
Відповідно до статті 22 Закону України «Про забезпечення функціонування української мови як державної» наукові видання України публікуються державною мовою, англійською мовою та/або іншими офіційними мовами Європейського Союзу. Згідно з цим, журнал «Хімія, фізика та технологія поверхні» приймає до розгляду лише статті, які написані українською або англійською мовою.