Copyright (©) 2023 V. V. Goncharuk, A. S. Makarov, L. V. Dubrovina, I. M. Kosygina, I. M. Kruchko
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
V. V. Goncharuk
Інститут колоїдної хімії та хімії води ім. А.В. Думанського Національної академії наук України
Україна
A. S. Makarov
Інститут колоїдної хімії та хімії води ім. А.В. Думанського Національної академії наук України
Україна
L. V. Dubrovina
Інститут колоїдної хімії та хімії води ім. А.В. Думанського Національної академії наук України
Україна
I. M. Kosygina
Інститут колоїдної хімії та хімії води ім. А.В. Думанського Національної академії наук України
Україна
I. M. Kruchko
Інститут колоїдної хімії та хімії води ім. А.В. Думанського Національної академії наук України
Україна
Оголошення!
Відповідно до статті 22 Закону України «Про забезпечення функціонування української мови як державної» наукові видання України публікуються державною мовою, англійською мовою та/або іншими офіційними мовами Європейського Союзу. Згідно з цим, журнал «Хімія, фізика та технологія поверхні» приймає до розгляду лише статті, які написані українською або англійською мовою.