Copyright (©) 2023 T. V. Fesenko, I. V. Laguta, O. M. Stavinskaya, P. O. Kuzema, V. M. Anishchenko, O. I. Oranska, R. V. Ivannikov, O. A. Diyuk, I. O. Skorochod
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
T. V. Fesenko
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка Національної академії наук України
Україна
I. V. Laguta
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка Національної академії наук України
Україна
O. M. Stavinskaya
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка Національної академії наук України
Україна
P. O. Kuzema
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка Національної академії наук України
Україна
V. M. Anishchenko
Інститут фізико-органічної хімії та вуглехімії ім. Л.М. Литвиненка Національної академії наук України
Україна
O. I. Oranska
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка Національної академії наук України
Україна
R. V. Ivannikov
Національний ботанічний сад ім. М.М. Гришка Національної академії наук України
Україна
O. A. Diyuk
Інститут сорбції та проблем ендоекології Національної академії наук України
Україна
I. O. Skorochod
Інститут мікробіології і вірусології ім. Д.К. Заболотного Національної академії наук України
Україна
Оголошення!
Відповідно до статті 22 Закону України «Про забезпечення функціонування української мови як державної» наукові видання України публікуються державною мовою, англійською мовою та/або іншими офіційними мовами Європейського Союзу. Згідно з цим, журнал «Хімія, фізика та технологія поверхні» приймає до розгляду лише статті, які написані українською або англійською мовою.