Хімія, фізика та технологія поверхні, 2011, 2 (1), 53-60.

Хімічне модифікування поверхні поруватого кремнію групами поліоксіетильованих спиртів



A. O. Suvorova, S. A. Alekseev, V. N. Zaitsev

Анотація


За допомогою фотоініційованої реакції в присутності йодоформу проведено закріплення фрагментів неіонних поверхнево-активних речовин (ПАР) Тритону Х-100, Неонолу АФ9-10 та Синтанолу АЛМ-10 на поверхні поруватого кремнію. Одержані матеріали досліджено за допомогою методів ІЧ-спектроскопії та температурно-програмованої десорбційної мас-спектрометрії (ТПД МС). Встановлено механізм термічного розкладу закріплених фрагментів ПАР. Він відбувається шляхом багатостадійних паралельних хімічних перетворень. Вивчено гідролітичну стійкість та гідрофільно-гідрофобні властивості одержаних матеріалів. Знайдено, що гідрофобність визначається природою закріплених груп ПАР і пов'язана, вірогідно, з наявністю в них алкільних ланцюжків, які можуть упаковуватися в щільні гідрофобні структури.

Повний текст:

PDF (Русский)

Посилання


Скришевський В.А. Фізичні основи напівпровідникових хімічних сенсорів. Київ: ВПЦ Київський університет, 2006. – 190 с.

Shmygol I.V., Alekseev S.A., Lavrinenko O.Yu. et al. Chemically modified porous silicon for laser desorption/ionization mass spectrometry of ionic dyes // J. Mass Spectrom. – 2009. – V. 44, N 8. – P. 1234–1240.

De Stefano L., Morett L., Rendina I., Rotiroti L. Pesticides detection in water and humic solutions using porous silicon technology // Sens. Actuators B. – 2005. – V. 111–112, N 11. – P. 522–525.

Go E.P, Uritboonthai W., Apon J.V. et al. Selective metabolite and peptide capture/mass detection using fluorous affinity tags // J. Proteome Res. – 2007. – V. 6, N 4. – P. 1492–1499.

Buriak J.M. Organometallic chemistry on silicon and germanium surfaces // Chem. Rev. – 2002. – V. 102, N 5. – P. 1271–1306.

Барабаш Р.Н., Алексеев С.А., Зайцев В.Н., Барбье Д. Устойчивость к окислению и модифицирование винилсиланами пористого кремния // Укр. хим. журн. – 2006. – Т. 72, № 10. – С. 78–84.

Lewis W.G., Shen Z., Finn M.G, Siuzdak G. Desorption/ionization on silicon (DIOS) mass spectrometry: background and application // Int. J. Mass Spectrom. – 2003. – V. 226, N 1. – P. 107–116.

Зайцев В.Н., Халаф В.А., Зайцева Г.Н., Алексеев С.А Полиоксиэтилированный кремнезем для концентрирования фенола из водных растворов // Укр. хим. журн. – 2005. – Т. 71, № 9. – C. 59–64.

Zaitsev V.N., Khalav V.A., Zaitseva G.N. Organosilica composite for preconcentration of phenolic compounds from aqueous solutions // Anal. Bioanal Chem. – 2008. – V. 391, N 4. – P. 1335–1342.

Халаф В.А., Турчин В.О., Зайцев В.Н. Определение 2,4-дихлорфеноксиуксусной кислоты в водных объектах окружающей среды // Методы и объекты химического анализа. – 2009. – Т. 4, № 1. – С. 67–72.

Халаф В.А., Турчин В.О., Гринько А.П., Зайцев В.Н. Твердофазно-экстракционное концентрирование 2,4-дихлорфеноксиуксусной кислоты на кремнеземе с привитыми группами полиоксиэтилированного изооктилфено­ла // Журн. аналит. химии. – 2009. – Т. 64, № 2. – С. 124–129.

Alekseev S.A., Lysenko V., Zaitsev V.N., Barbier D. Application of infrared interferometry for quantitative analysis of chemical groups grafted onto the internal surface of porous silicon nanostructures // J. Phys. Chem. C. – 2007. – V. 111, N 42. – P. 15217–1522.

Herino R., Bomchil G., Barla K. et al. Porosity and pore size distributions of porous silicon layers // J. Electrochem. Soc. – 1987. – V. 134, N 4. – P. 1994–2000.

Абрамзон А.А. Поверхностно-активные вещества: свойства и применение. – Ленинград: Химия, 1981. – 304 с.

Vadakkan T.J., Mandler D. Surface functionalization of H-terminated silicon surfaces with alcohols using iodoform as an in situ iodinating agent // ChemPhysChem. – 2002. – V. 3, N 11. – P. 973–975.

Butt H.-J., Graf K., Kappl M. Physics and Chemistry of Interfaces. – Weinheim: Wiley-VCH, 2003. – 373 p.

Lysenko V., Vitiello J., Remaki B., Barbier D Gas permeability of porous silicon nanostructures // Phys. Rev. E. – 2004. – V. 70, N 1. – P. 017301 (1–4).

Nakamura M., Song M.-B., Ito M. Etching processing of Si(111) and Si(100) surfaces in an ammonium fluoride solution investigated by in situ ATR-IR // Electrochim. Acta. – 1996. – V. 41, N 5. – P. 681–686.

Alekseev S.A., Zaitsev V.N., Fraissard J. Organosilicas with covalently bonded groups under thermochemical treatment // Chem. Mater. – 2006. – V. 18, N 7. – P. 1981–1987.




Copyright (©) 2011 A. O. Suvorova, S. A. Alekseev, V. N. Zaitsev